fieldid E-Thesis & Research สถาบันเทคโนโลยีไทย-ญี่ปุ่น
สืบค้น:

เขตข้อมูล ข้อมูล
บทคัดย่อ
การหาค่าที่เหมาะสมที่สุดของกระบวนการชุบทองแดงลงบนกราไฟต์อิเล็กโทรดสำหรับกระบวนการกัดเซาะโลหะด้วยตัวนำไฟฟ้า : กระบวนการกัดเซาะโลหะด้วยตัวนำไฟฟ้า(EDM) เป็นกระบวนการขึ้นรูปที่เหมาะกับงานที่ไม่สามารถขึ้นรูปได้ด้วยวิธีการทั่วไป โดยมีตัวนำไฟฟ้าหรืออิเล็กโทรดเป็นตัวกำหนดรูปร่างชิ้นงาน วัตถุดิบที่นิยมนำมาทำคือ กราไฟต์ และ ทองแดง กราไฟต์เป็นวัสดุที่มีคุณสมบัติทนทานต่อการเสียรูปที่เกิดจากอุณหภูมิสูงได้ดี แต่มีค่าการนำไฟฟ้าต่ำกว่าทองแดง จึงเกิดแนวความคิดในการใช้วัตถุดิบผสมระหว่างทองแดงและกราไฟต์ขึ้น ทว่าต้นทุนของวัตถุดิบผสมนั่นค่อนข้างสูง และเข้าถึงได้ยาก จึงเกิดการพัฒนาแนวทางการเคลือบฟิล์มทองแดงบนผิวของอิเล็กโทรดกราไฟต์ขึ้น เพื่อลดต้นทุนและเข้าถึงได้ง่าย ในการวิจัยนี้ได้ทำการทดสอบหาค่าที่เหมาะสมที่สุดของตัวแปรในการชุบไฟฟ้าเคมีที่ส่งผลต่อความเรียบของทองแดงบนผิวกราไฟต์ รวมทั้งค่าอัตราการสึกของอิเล็กโทรดและความเรียบผิวของชิ้นงานในกระบวนการ EDM โดยใช้การออกแบบการทดลองแบบ Taguchi grey relational analysis และเลือกใช้ Taguchi orthogonal array L8 เข้ามาช่วยในการออกแบบ โดยทำการชุบผิวทองแดงด้วยเวลาในการชุบ 3 และ 5 ชั่วโมง ความเข้มข้นของสารละลาย 0.5 และ 1 Mol ความหนาแน่นกระแสไฟฟ้าในการชุบ 3.7 และ 5.4 A/dm2 โดยค่าตัวแปรในการชุบที่เหมาะสมที่สุดคือเวลาในการชุบ 5 ชั่วโมง ความเข้มข้นสารละลาย 0.5 Mol และ ความหนาแน่นกระแสไฟฟ้า 5.4 A/dm2 และเมื่อทำการเปรียบเทียบผลลัพธ์กับอิเล็กโทรดจากทองแดงและกราไฟต์แล้ว ความเรียบผิวชิ้นงานที่ออกมาอยู่ในระดับเดียวกับทองแดง ทว่าอัตราการสึกของอิเล็กโทรดยังคงมากกว่าอิเล็กโทรดทองแดง ดังนั้นทางผู้วิจัยจึงเสนอแนะแนวทางการปรับปรุงการชุบโดยการเปลี่ยนสารละลายที่ใช้ และเสนอแนวทางการตรวจสอบคุณของอิเล็กโทรดที่ผ่านการชุบโดยไม่ต้องทดลองกัดชิ้นงานจริง
ผู้แต่ง
ณัฐวุฒิ จินดาลัทธ
ประเภทสิ่งพิมพ์
วิทยานิพนธ์ (MET) 2019
เลขหน้า
79
หัวเรื่อง
สถาบันเทคโนโลยีไทย-ญี่ปุ่น.สาขาวิชาเทคโนโลยีวิศวกรรม--วิทยานิพนธ์
หัวเรื่อง
เทคโนโลยีวิศวกรรม--วิทยานิพนธ์
เอกสารฉบับเต็ม
Download full text